真空吸盘的特性与应用

        随着半导体的发展与高科技产业的进步，其商品的生产已迈入了「精密化」与「自动化」的高度需求。「真空吸盘」适时的提供了半导体与光电业的应用，研发团队不断创新和研究，提供了各种材质予以应用，像是NBR、Silicone、FKM、导电NBR、导电硅胶、PEEK，并且还改善了生产时的印痕产生、ESD、增加良率…等项目。

	一段(通用)：标准平型真空吸盘，适用表面平整吸附物件，吸附力强、稳定。
	一段(薄型)：真空吸盘唇部非常薄，适用于薄型工件上。
	二段：吸盘本身有双层皱折，适用于吸附倾斜物件，吸附力强、稳定，另可搭配工程塑胶PEEK配件，做出无痕吸盘，抗静电ESD吸盘。
	三段：吸盘三段式设计，吸盘本身有多层皱折，提供有效溃缩行程，即使表面不平整之工件，也能使吸盘有效达到完全吸附。